半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組

半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組選型，價格，方案等與江蘇康士捷機(jī)械設備(bèi)有限公司溝通，多案例供參考。

康士捷生産的工業控溫設備有高溫型（5℃～35℃）、中溫型（-5℃～-40℃）、低溫型（-40℃～-80℃）、超低溫型（-150℃～-80℃）、冷熱兩用型（-150℃～+300℃）等系列産品供貴司選用。制冷量大小都有，有防爆型，防腐型，撬裝式，變頻型等。接受非标定做。溫度穩定性±0.1℃等可選。

以下列出部分參(cān)數，貴司參(cān)數溝通選型後確(què)認。

半導體蝕刻低溫工藝控制制冷機組

低溫蝕刻工藝需求

• 典型溫區：

• 常規蝕刻：-30°C～-60°C（如矽蝕刻、氧化物蝕刻）。

• 深低溫蝕刻：-60°C～-100°C（如高深寬比結構、低溫等離子體蝕刻）。

• 核心要求：

• 溫度穩定性：±0.1°C（避免反應速率波動）。

• 快速響應：降溫速率≥5°C/min（工藝切換需求）。

• 潔淨度：無油污染（防止腔體污染）。

制冷系統選型

(1) 複疊式機械制冷

• 适用場景：-40°C～-100°C，中等冷量需求（5～50kW）。

• 工質組合：

• 高溫級(jí)：R507A/R448A（-40°C蒸發(fā)）。

• 低溫級(jí)：R23/R14（-80°C以下需R14或氦氣(qì)）。

• 優勢：連續運行、能效比高（COP＞1.0@-80°C）。

(2) 渦輪膨脹制冷

• 适用場景：超低溫（-150°C以下）、極小冷量（如科研級蝕刻）。

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